【恭喜宿主获得奖励：原子光刻机研发技术！】
哇草——
原子光刻机？？
正在开车的洛云峥蛋蛋一震！
无数复杂的光刻机技术排队灌入他的脑海。
上一次的万分超级大奖是1n芯片研发技术，近一个半月，他一直在私下研究消化，同时让沈夜子秘密前期筹备。
如果想生产出1n芯片，必须拥有能承载1n生产工艺的光刻机，因为芯片在设计之后，要经过一系列复杂的生产流程，而光刻是其中最重要的环节。
光刻机对于芯片，相当于“印刷机+雕刻刀”的综合体，即把芯片设计图以纳米级精度“印刻”到硅晶圆上，它决定了电路的最小线宽与关键尺寸，是整个制造流程的核心。
目前世界上的主流光刻机，根据光源不同，分为UV（紫外光源）、DUV（深紫外光源）、EUV（极紫外光源）。
其中EUV光刻机技术最先进，可以生产2n芯片，荷国的阿丝麦公司是全球唯一量产EUV的供应商，苔积电、三星、英特尔为主要客户。
龙国的光刻机技术相对落后，仍处在DUV阶段，当然还有别的光刻模式，比如电子束光刻机，但国内最先进的光刻机只能生产7n芯片，而且暂时未能量产。
拿华伟举例，华伟最新款旗舰手机Mate XTS三折叠，芯片为麒林9020，工艺为龙芯国际7n，该工艺采用的光刻机是荷国阿丝麦公司的浸没式DUV。
问：为什么不采用更高端的EUV光刻机？
答：荷国在米方的施压下实施出口管制。
因此，龙国的芯片行业一直被欧美卡着脖子，花高价都买不到高端光刻机。
系统传授洛云峥的光刻机是原子技术，原子光刻机与EUV等主流光刻机区别很大。
对比来看——
精度方面：原子光刻机的分辨率能突破0.3纳米，而当前最先进的EUV光刻机精度只能达到2n。
能耗方面：原子光刻机与EUV光刻机相比，可将芯片制造能耗降低80%。
成本方面：原子光刻机的成本可压缩到EUV光刻机的1/5，要知道高端EUV光刻机的售价高达25亿/台，成本之昂贵，可见一斑。
一句话，原子光刻机吊打当今世界上最先进的EUV光刻机。
别说1n芯片了，0.3n都可以承制。
因为技术过高，全球至今无人能研发出原子光刻机，目前处于理论试验阶段。
洛云峥如果研发出原子光刻机，生产1n芯片那是手拿把掐，龙国在芯片和光刻机领域也将一骑绝尘，遥遥领先！
我就说嘛~
只奖励我1n芯片研发技术，却不奖励能制造它的光刻机，这不是玩儿我嘛。
现在好了，完美解决！
光刻机的研发难度不亚于芯片，这是先有鸡还是先有蛋的问题，EUV光刻技术从提出到正式投入工业化生产，研究人员花费长达30年时间，由此可见它的难度有多高。
量子技术就更复杂了……
洛云峥单单接受系统传功，就花费一个多小时，到了复交附属肿瘤医院，脑瓜子嗡嗡的。
不行！
得释放释放！
不然脑子要炸！
洛云峥见到乔芷薇，话不多说，简单推拿预个热，立马针灸教学，连续扎了她300多针，这才稍稍释放一些。
乔芷薇吓坏了：小王八蛋真要命…姐姐差点被你扎嗝屁……
回到公司，已是夕阳西下之时。
沈夜子纳闷道：“这次授课怎么这么久呀？”
“这节课比较复杂，耗时较长。”